یک شرکت ژاپنی با استفاده از فناوری نانو پارچهای تولید کرده که قادر است بوی بد را از بین ببرد. این پارچه قابلیت استفاده در انواع مختلف منسوجات را دارد.
آیا منسوجات میتوانند بو را از بین ببرند؟ بله، درست خواندید. تورای اینداستریز (Toray Industries) به تازگی اعلام کرده که محصولی با نام Mushon ۴X را تولید کرده است که بو را از طریق فناورینانو از بین میبرد.
این شرکت از فناوری نانو انحصاری استفاده میکند که در آن چندین روش پردازش برای جلوگیری از بو گرفتن و از بین بردن بو استفاده شده است. این فناوری دارای خواص عملکردی ضدباکتری و آنتی اکسیدانی نیز است.
تورای اینداستریز به زودی پارچهای را برای کاربردهای متنوع مورد نیاز برای کنترل بوی نامطبوع تجاریسازی خواهد کرد.
این پارچه میتواند در بخش داخلی لباسها، پیراهن، جین و سایر لباسهای معمولی و همچنین روکشهای فوتونی (futon)، ملحفهها، لباس کار، منسوجات مورد استفاده در بخش خدمات، پزشکی و مدرسه به کار گرفته شود.
پیشبینی شرکت تورای اینداستریز برای فروش اولیه این محصول حدود ۲۰۰،۰۰۰ متر در سال مالی ۲۰۲۱ است و این شرکت برای سال ۲۰۲۵ افزایش فروش تا ۵۰۰،۰۰۰ متر را هدف قرار داده است.
تورای اینداستریز در سال ۲۰۰۸ با همکاری آژانس اکتشاف هوافضا ژاپن، Mushon را برای معطرسازی آمونیاک ناشی از تعریق توسعه داده است.
این محصول برای عملکرد جالب توجه خود در بخش داخلی لباسهای معمولی، لباس فرم، لباس ورزشی و سایر موارد مورد تقدیر قرار گرفته است.
Mushon ۴X با سرکوب بو، قابلیت بوگیری Mushon را افزایش میدهد. روزهای شرجی و گرم تابستان در ژاپن، نیاز به کنترل و از بین بردن بوی تعریق را افزایش داده است.
تورای اینداستریز از محفظههای شبیهسازی هوا موسوم به Technorama GII و Technorama GIII برای بازسازی طیف وسیعی از شرایط دما و رطوبت استفاده کرده تا تأیید مجدد عملکرد فناوری و ارزیابی علل بو گرفتن را انجام دهد. نتایج این کار نشان داده است که تجزیه اکسیداتیو سبوم منشاء اصلی بو است.
Mushon ۴X با جلوگیری از تجمع سبوم در پارچه از ایجاد لکه جلوگیری کرده و بر بوی آمونیاک غلبه میکند. این فناوری رشد باکتریهای ایجاد کننده بو را نیز سرکوب میکند. این فناوری همچنین بهعنوان یک آنتی اکسیدان در مهار تجزیه اکسیداتیو سبوم نقش مهمی ایفا میکند.
Mushon ۴X سازگار با محیطزیست است چرا که در فرآیند تولید آن از ترکیبات پایه فلورین استفاده نمیشود.
منبع: ستاد ویژه توسعه فناوری نانو
بدون نظر